ФГУП ВНИИОФИ : Всероссийский научно-исследовательский институт оптико-физических измерений
Комплекты мер диффузионного отражения ОДО-3
Комплект состоит из девяти мер диффузного отражения в форме дисков, изготовленных методом прессования и спекания политетрафторэтилена и заключенных в защитные оправы.
Описание

Госреестр № 29288-05

меры диффузного отражения

zakaz

Набор образцов диффузного отражения ОДО-3 предназначен для хранения и передачи размера единиц спектрального коэффициента диффузного отражения (СКДО) в спектральном диапазоне 0,25 - 2,5 мкм и в диапазоне коэффициента отражения 0,05 - 0,99

Работа с набором проводится в лабораторных условиях:

  • Температура, 15 - 25° С
  • Относительная влажность, 50 - 80%
  • Атмосферное давление, 84 - 106 кПа

line168

Контактные лица

Иванов Александр Вячеславович

ivanov_2
Этот e-mail адрес защищен от спам-ботов, для его просмотра у Вас должен быть включен Javascript

Масальская Наталья Ивановна

ivanov_2
Этот e-mail адрес защищен от спам-ботов, для его просмотра у Вас должен быть включен Javascript
Технические характеристики
Диапазон измерения длин волн измерения, нм
1400 ÷ 2400
Диапазон измерений СКДО, %
6,0 ÷ 99,0
Значения СКДО светофильтров №№ 1-9 при длине волны 2000 нм, %
95,0 ± 4,0
75,0 ± 5,0
60,0 ± 5,0
55,0 ± 5,0
40,0 ± 5,0
35,0 ± 5,0
20,0 ± 5,0
15,0 ± 5,0
7,0 ± 4,0
Предел допускаемого значения абсолютной погрешности измерения СКДО мер,%
2,0
Значения длин волн максимумов полос поглощения светофильтра ТОСП, нм
1679,8
1907,3
2136,1
Предел абсолютной погрешности измерения длин волн максимумов полос поглощения светофильтра ТОСП, нм
±0,5
Габаритные размеры, мм, не более
- диаметр корпуса меры
- диаметр меры

50
30
Масса одной меры, г, не более
50

 
ФГУП ВНИИОФИ оказывает услуги по
поверке, калибровке средств измерений, аккредитации методик проведения измерений, аккредитации лабораторий неразрушающего контроля

Лицензия на производство приборов и средств измерений

Лицензия № 004499-ИР

от 16.04.2008

На базе ФГУП ВНИИОФИ размещена уникальная база
государственных первичных эталонов.